GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)與同類(lèi)設(shè)備的對(duì)比
.發(fā)熱問(wèn)題。同類(lèi)設(shè)備在加工過(guò)程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000/4

更新時(shí)間：2025-07-30

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn) 量：207

服務(wù)熱線

133-3868-4951

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產(chǎn)品分類(lèi)

PRODUCT CLASSIFICATION

均質(zhì)機(jī)

醫(yī)藥級(jí)均質(zhì)機(jī) 中試型均質(zhì)機(jī) 實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)機(jī) 管線式均質(zhì)機(jī) 超高速均質(zhì)機(jī) 高壓均質(zhì)機(jī) 植物細(xì)胞破壁均質(zhì)機(jī) 食品均質(zhì)機(jī) 超高速剪切均質(zhì)機(jī) 化工均質(zhì)機(jī) 高剪切均質(zhì)機(jī) 高速均質(zhì)機(jī) 納米均質(zhì)機(jī) 勻漿機(jī) 研磨均質(zhì)機(jī) 超細(xì)均質(zhì)機(jī) 飲料均質(zhì)機(jī)

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產(chǎn)品介紹

超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)，染料分散設(shè)備，高剪切研磨均質(zhì)機(jī)，高速研磨均質(zhì)機(jī)，超細(xì)研磨均質(zhì)機(jī)

染料傳統(tǒng)的分散設(shè)備為批次研磨均質(zhì)機(jī)，隨著工業(yè)化的發(fā)展，以及染料行業(yè)的不斷進(jìn)步，批次研磨均質(zhì)機(jī)的弊端暴露無(wú)遺，一是分散的不夠均勻，二是對(duì)于染料的細(xì)化能力不足。在這個(gè)大趨勢(shì)下，上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機(jī)，SGN超高速高速研磨均質(zhì)機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，是批次研磨均質(zhì)機(jī)的4-5倍。物料一進(jìn)一出，100%得到剪切分散，生產(chǎn)出來(lái)的染料產(chǎn)品，更加細(xì)膩均勻。

GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)與同類(lèi)設(shè)備的對(duì)比

發(fā)熱問(wèn)題。同類(lèi)設(shè)備在加工過(guò)程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

型號(hào)	標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 Rpm	標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	進(jìn)口尺寸	出口尺寸
GMD2000/4	300-1，000	14，000	44	2.2	DN25	DN15
GMD2000/5	1，000-1,500	10，500	44	7.5	DN40	DN32
GMD2000/10	3，000	7，300	44	15	DN50	DN50
GMD2000/20	8，000	4，900	44	37	DN80	DN65
GMD2000/30	20，000	2，850	44	75	DN150	DN125
GMD2000/50	40，000	2，000	44	160	DN200	DN150

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GM2000的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過(guò)10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布就更窄。

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